跨越 3D 幾何的物理瓶頸,重新定義薄膜沉積。
當結構變得深、窄或具備三維幾何時,薄膜沉積面臨保形性與孔底覆蓋率的物理挑戰。ALDO 從表面化學機制出發,提供跨越這些限制的製程方案。
ALDO 以循序式自限制表面化學進行薄膜成長,能在高深寬比與複雜幾何下達成優異的保形覆蓋,並實現 埃米級 (Ångström) 厚度精準控制。
當結構變得深、窄或具備三維幾何時,薄膜沉積面臨保形性與孔底覆蓋率的物理挑戰。ALDO 從表面化學機制出發,提供跨越這些限制的製程方案。
ALDO 以循序式自限制表面化學進行薄膜成長,能在高深寬比與複雜幾何下達成優異的保形覆蓋,並實現 埃米級 (Ångström) 厚度精準控制。
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