悅鍍科技 (ALDO Technology)是一家位於台中精密工業區的原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)製程/材料開發及系統設計/製造的企業。
有別於傳統的化學氣相沉積 (Chemical Vaporization Deposition, CVD),ALD具有表面自限制的特點,因此在眾多薄膜製備技術中脫穎而出,展現出獨樹一幟的優勢!悅鍍科技提供從實驗室 (lab) 到工廠 (fab) 的ALD設備及材料,甚至前驅物回收或廢棄物處理,為泛半導體(半導體、新能源、柔性顯示、光學鍍膜、生物醫療、奈米技術等領域)的薄膜沉積研發和生產提供整體化解決方案。
透過調節反應循環次數精確控制薄膜厚度,形成原子級厚度的薄膜,可廣泛適用於各種形狀的襯底,在高深寬比結構及其他複雜三維結構中,可也生成保形性極佳的薄膜。前驅體或反應物是飽和的化學吸附,能確保生成大面積均勻性的薄膜,薄膜光滑、緻密、無針孔,適合界面修飾和製備多組元奈米疊層結構。
瞭解更多悅鍍科技ALD薄膜沉積系統提供多種先進的技術, 包括離子體增強系統(PE-ALD), 大尺寸沉積系統 (Large Area ALD), 粉末包覆系統 (Powder ALD), 超高真空系列 (UHV ALD) 等; 新一代智慧化系統設計, 裝備簡潔友善軟硬體介面 + 全方位安全互鎖解決方案; 從實驗室用到高產量生產設備,悅鍍科技是您的 ALD 合作夥伴。
透過與材料商合作,我們提供及補充前驅體來支援我們的設備; 或開發新下一代製程所需的材料;我們採用專有技術,還提供具有成本效益的前驅體回收服務,以降低成本 Low Cost of Ownership (COO)。
悅鍍科技提供ALD鍍膜服務,以滿足全球客戶對超薄薄膜或高縱橫比(如TGV, Showerhead)的需求 無論數量大小,我們都會以合理的價格滿足您的技術規格。
原子層沉積(ALD)技術在光學、奈米技術、微機械系統、能源、催化、生物醫用、顯示器、耐腐蝕及密封塗層等領域的研究方興未艾,呈現爆發式增長,我們團隊帶來矽谷近30年製程及設備經驗,希望與台灣業界合作,推動台灣 ALD 應用邁向新高度。
關於我們探索我們在原子層沉積解決方案中的使命與專業,專為先進產業而打造。