![<subject>[background image] image of robotics lab (for a robotics and automation)</subject>](images/product-header.jpg)
從實驗室用到卷對卷 (roll to roll) 高產量生產設備
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/Thermal-ALD.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 300x300mm方形
製程溫度：溫度範圍：RT~500°C （可自訂）
前驅體路數：最大支援6路前驅體氣路（可客製)，包含固、液態前驅體
源瓶加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
壓力監測：雙薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統：標準油泵
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/Plasma-Enhanced-System.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 300x300mm方形
製程溫度：溫度範圍：RT~500°C （可自訂）
前驅體路數：最大支援6路前驅體氣路（可客製)，包含固、液態前驅體源瓶
加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
等離子體系統：支援4路等離子體氣體（可客製化）射頻功率：0~1000W
壓力監測：雙薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統：標準油泵
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/Large-Area-ALD.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 500x500mm方形
製程溫度：溫度範圍：RT~500°C （可自訂）
前驅體路數：最大支援6路前驅體氣路（可客製)，包含固、液態前驅體源瓶
加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
等離子體系統：支援4路等離子體氣體（可客製化）
射頻功率：0~1000W
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/UHV-ALD.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 300x300mm方形
製程溫度：溫度範圍：RT~400°C ; 精度：土1°C（可自訂）
前驅體路數：最大支援6路前驅體氣路（可客製)，包含固、液態前驅體源瓶
加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
高真空系統：高性能分子泵，支援對高真空的真空度需求
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/Glove-Box-integreated.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 300x300mm方形
製程溫度：溫度範圍：RT~500°C （可自訂）前
驅體路數：最大支援6路前驅體氣路（可客製)，包含固、液態前驅體源瓶
加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
等離子體系統：支援4路等離子體氣體（可客製化）
射頻功率：0~1000W
壓力監測：雙薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統：標準油泵
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/PA-Series.jpg)
設備規格
基板: 100/150/200/300mm 晶圓或不超過 300x300mm方形
可處理樣品量：克級
製程溫度：溫度範圍：RT~450°C
前驅體路數：最大支援4路前驅體氣路（可自訂)，包含固、液態前驅體源瓶
加熱系統：可加熱溫度範圍：RT~150℃
反應物路數：支援2路反應物氣路（可客製化）
載氣：標準：N2, MFC 流量控制（可自訂）
壓力監測：三薄膜規組合（耐腐蝕)，0.005Torr - 1000Torr
本底真空度：<5x10-3 Torr
真空系統：標準油泵
![[background image] image of a futuristic laboratory setting (for a ai biotech company)](images/量產型設備.jpg)
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