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悅鍍科技 （ALDO Technology）是一家位於台中精密工業區的原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）製程/材料開發及系統設計/製造的企業。
有別於傳統的化學氣相沉積 (Chemical Vaporization Deposition, CVD)，ALD具有表面自限制的特點，因此在眾多薄膜製備技術中脫穎而出，展現出獨樹一幟的優勢！悅鍍科技提供從實驗室 (lab) 到工廠 (fab) 的ALD設備及材料，甚至前驅物回收或廢棄物處理，為泛半導體（半導體、新能源、柔性顯示、光學鍍膜、生物醫療、奈米技術等領域）的薄膜沉積研發和生產提供整體化解決方案。
透過精確調節反應循環次數，ALD 形成原子級厚度的保形薄膜，可在 Aspect Ratio > 20 的複雜三維結構上生成大面積均勻、緻密、無針孔的薄膜。
悅鍍科技ALD薄膜沉積系統提供多種先進的技術, 包括離子體增強系統(PE-ALD), 大尺寸沉積系統 (Large Area ALD), 粉末包覆系統 (Powder ALD), 超高真空系列 (UHV ALD) 等; 新一代智慧化系統設計, 裝備簡潔友善軟硬體介面 + 全方位安全互鎖解決方案; 從實驗室用到高產量生產設備,悅鍍科技是您的 ALD 合作夥伴。
我們的材料合作夥伴提供設備相關的前驅體與填充服務。我們也提供帶液位感測器的前驅體鋼瓶，精確控制製程用量、消除缺料風險，並輕鬆規劃鋼瓶更換與預防性維護 (PM) 停機時間。
悅鍍科技提供ALD鍍膜服務，以滿足全球客戶對超薄薄膜或高縱橫比（如TGV, Showerhead）的需求 無論數量大小，我們都會以合理的價格滿足您的技術規格。
原子層沉積（ALD）技術在光學、奈米技術、微機械系統、能源、催化、生物醫用、顯示器、耐腐蝕及密封塗層等領域的研究方興未艾，呈現爆發式增長，我們團隊帶來矽谷近30年製程及設備經驗，希望與台灣業界合作，推動台灣 ALD 應用邁向新高度。
關於我們探索我們在原子層沉積解決方案中的使命與專業，專為先進產業而打造。